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módulo VME de Entrada/Saída Digital 0100-11002

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Visão Geral

Local de origem:

EUA

Nome da marca:

AMAT

Número do Modelo:

0100-11002

Detalhes da Embalagem:

Novo original, lacrado de fábrica

Prazo de Entrega:

5-7 Dias

Condições de Pagamento:

T/T

Capacidade de Fornecimento:

Em estoque

Detalhe Rápido

Arquitetura de Barramento:

Padrão VME/VXI

Função:

Transmitir e processar sinais de controle lógico da máquina

Tensão de Entrada:

24 VDC

Entradas Digitais:

16–32 canais (optoisolados)

Saídas Digitais:

16–32 canais (saída por relé ou transistor)

Indicadores de Status de E/S:

LEDs integrados para cada canal de entrada/saída

Fator de Forma:

8x8,6x26,1 cm

Peso:

0,5 kg

Descrição

O AMAT 0100-11002 é um Módulo Digital I/S VME fabricado pela Applied Materials. Esta placa é um componente essencial em equipamentos de fabricação de semicondutores e é comumente utilizada nas máquinas da série clássica Precision 5000 (P5000).

Principais Características

Função: Como placa de interface DI/DO (Entrada Digital/Saída Digital), é responsável pela transmissão e processamento dos sinais lógicos de controle da máquina.

Arquitetura de Barramento: Adota os padrões de módulo VME/VXI e integra-se ao gabinete principal da máquina.

Especificações Elétricas: Opera tipicamente a 24 VCC; indicadores LED integrados monitoram o status das entradas e saídas.

Especificações

Temperatura de Operação:

0°C a 70°C

Temperatura de armazenamento:

-20°C a 85°C

Isolamento:

Isolamento óptico ou elétrico para entradas e saídas

Montagem:

Ranhura para chassi VME 6U ou compatível

Conformidade:

Padrões VME64/VXI

Aplicações

Amplamente utilizado nos equipamentos da Applied Materials para processamento de wafers de 200 mm, incluindo ferramentas de gravação (etching), deposição química de vapor (CVD) e deposição física de vapor (PVD):
Controle de Equipamentos de Gravação
O modelo 0100-11002 é usado para interface com sensores, geradores de RF e controladores de fluxo de massa em sistemas de gravação de wafers de 200 mm. Ele monitora condições de processo, como pressão, fluxo de gás e parâmetros de plasma, além de controlar atuadores, válvulas e sistemas de intertravamento em tempo real para garantir perfis de gravação precisos.
Ferramentas de Deposição Química de Vapor (CVD)
Nos sistemas CVD, o módulo gerencia sinais digitais para entrega de gás, controle de temperatura e manipulação de substratos. Suas entradas optoisoladas protegem o controlador principal contra ruídos elétricos, ao mesmo tempo que fornecem monitoramento confiável de parâmetros críticos do processo. As saídas digitais acionam aquecedores, válvulas de gás e sistemas de bombas para manter uma deposição uniforme de filmes finos sobre os wafers.
Sistemas de Deposição Física de Vapor (PVD)
Para ferramentas PVD, as coordenadas 0100-11002 controlam as fontes de deposição, as bombas de vácuo e os mecanismos de rotação do substrato. As entradas/saídas digitais de alta velocidade permitem a sincronização de múltiplas câmaras, garantindo espessura e uniformidade consistentes do filme em wafers de 200 mm.
Integração de Equipamentos Semicondutores de Múltiplas Câmaras
A arquitetura de barramento VME/VXI do módulo permite a integração de múltiplos módulos 0100-11002 em um único chassi. Essa escalabilidade possibilita o controle de sistemas de múltiplas câmaras, fornecendo um número suficiente de canais de E/S para sensores e atuadores em ferramentas de processamento de semicondutores em larga escala.

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