- Visão Geral
- Detalhe Rápido
- Descrição
- Principais Características
- Especificações
- Aplicações
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Visão Geral
Local de origem: |
EUA |
Nome da marca: |
AMAT |
Número do Modelo: |
0100-11002 |
Detalhes da Embalagem: |
Novo original, lacrado de fábrica |
Prazo de Entrega: |
5-7 Dias |
Condições de Pagamento: |
T/T |
Capacidade de Fornecimento: |
Em estoque |
Detalhe Rápido
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Arquitetura de Barramento: |
Padrão VME/VXI |
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Função: |
Transmitir e processar sinais de controle lógico da máquina |
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Tensão de Entrada: |
24 VDC |
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Entradas Digitais: |
16–32 canais (optoisolados) |
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Saídas Digitais: |
16–32 canais (saída por relé ou transistor) |
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Indicadores de Status de E/S: |
LEDs integrados para cada canal de entrada/saída |
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Fator de Forma: |
8x8,6x26,1 cm |
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Peso: |
0,5 kg |
Descrição
O AMAT 0100-11002 é um Módulo Digital I/S VME fabricado pela Applied Materials. Esta placa é um componente essencial em equipamentos de fabricação de semicondutores e é comumente utilizada nas máquinas da série clássica Precision 5000 (P5000).
Principais Características
Função: Como placa de interface DI/DO (Entrada Digital/Saída Digital), é responsável pela transmissão e processamento dos sinais lógicos de controle da máquina.
Arquitetura de Barramento: Adota os padrões de módulo VME/VXI e integra-se ao gabinete principal da máquina.
Especificações Elétricas: Opera tipicamente a 24 VCC; indicadores LED integrados monitoram o status das entradas e saídas.
Especificações
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Temperatura de Operação: |
0°C a 70°C |
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Temperatura de armazenamento: |
-20°C a 85°C |
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Isolamento: |
Isolamento óptico ou elétrico para entradas e saídas |
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Montagem: |
Ranhura para chassi VME 6U ou compatível |
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Conformidade: |
Padrões VME64/VXI |
Aplicações
Amplamente utilizado nos equipamentos da Applied Materials para processamento de wafers de 200 mm, incluindo ferramentas de gravação (etching), deposição química de vapor (CVD) e deposição física de vapor (PVD):
Controle de Equipamentos de Gravação
O modelo 0100-11002 é usado para interface com sensores, geradores de RF e controladores de fluxo de massa em sistemas de gravação de wafers de 200 mm. Ele monitora condições de processo, como pressão, fluxo de gás e parâmetros de plasma, além de controlar atuadores, válvulas e sistemas de intertravamento em tempo real para garantir perfis de gravação precisos.
Ferramentas de Deposição Química de Vapor (CVD)
Nos sistemas CVD, o módulo gerencia sinais digitais para entrega de gás, controle de temperatura e manipulação de substratos. Suas entradas optoisoladas protegem o controlador principal contra ruídos elétricos, ao mesmo tempo que fornecem monitoramento confiável de parâmetros críticos do processo. As saídas digitais acionam aquecedores, válvulas de gás e sistemas de bombas para manter uma deposição uniforme de filmes finos sobre os wafers.
Sistemas de Deposição Física de Vapor (PVD)
Para ferramentas PVD, as coordenadas 0100-11002 controlam as fontes de deposição, as bombas de vácuo e os mecanismos de rotação do substrato. As entradas/saídas digitais de alta velocidade permitem a sincronização de múltiplas câmaras, garantindo espessura e uniformidade consistentes do filme em wafers de 200 mm.
Integração de Equipamentos Semicondutores de Múltiplas Câmaras
A arquitetura de barramento VME/VXI do módulo permite a integração de múltiplos módulos 0100-11002 em um único chassi. Essa escalabilidade possibilita o controle de sistemas de múltiplas câmaras, fornecendo um número suficiente de canais de E/S para sensores e atuadores em ferramentas de processamento de semicondutores em larga escala.