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- Panoramica
- Rapido dettaglio
- Descrizione
- Caratteristiche principali
- Specifiche
- Applicazioni
- Prodotti consigliati
Panoramica
Luogo di Origine: |
USA |
Nome del marchio: |
AMAT |
Numero di modello: |
0100-11002 |
Dettagli Imballo: |
Originale nuovo sigillato in fabbrica |
Tempo di Consegna: |
5-7 Giorni |
Condizioni di pagamento: |
T/T |
Capacità di fornitura: |
Disponibile |
Rapido dettaglio
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Architettura bus: |
Standard VME/VXI |
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Funzione: |
Trasmette ed elabora i segnali di controllo logico della macchina |
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Tensione di Ingaggio: |
24 VDC |
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Ingressi digitali: |
16–32 canali (con isolamento ottico) |
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Uscite digitali: |
16–32 canali (con uscita a relè o a transistor) |
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Indicatori di stato I/O: |
LED integrati per ogni canale di ingresso/uscita |
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Fattore di forma: |
8x8,6x26,1 cm |
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Peso: |
0, 5 kg |
Descrizione
L'AMAT 0100-11002 è una scheda digitale I/O VME prodotta da Applied Materials. Questa scheda è un componente fondamentale negli impianti per la produzione di semiconduttori ed è comunemente utilizzata nelle macchine della serie classica Precision 5000 (P5000).
Caratteristiche principali
Funzione: come scheda interfaccia DI/DO (ingresso digitale/uscita digitale), si occupa della trasmissione e dell’elaborazione dei segnali logici di controllo della macchina.
Architettura del bus: adotta gli standard dei moduli VME/VXI ed è integrata nel mainframe della macchina.
Specifiche elettriche: funziona tipicamente a 24 VCC; gli indicatori LED integrati monitorano lo stato degli ingressi/uscite.
Specifiche
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Temperatura di funzionamento: |
da 0°C a 70°C |
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Temperatura di conservazione: |
-20°C a 85°C |
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Isolamento: |
Isolamento ottico o elettrico per ingressi e uscite |
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Montaggio: |
Slot per chassis VME 6U o compatibile |
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Conformità: |
Standard VME64/VXI |
Applicazioni
Ampia utilizzazione nelle attrezzature per il trattamento di wafer da 200 mm di Applied Materials, inclusi strumenti per incisione (etching), deposizione chimica da fase vapore (CVD) e deposizione fisica da fase vapore (PVD):
Controllo degli strumenti per incisione
Il modello 0100-11002 è utilizzato per interfacciarsi con sensori, generatori RF e regolatori di portata massica nei sistemi di incisione per wafer da 200 mm. Monitora le condizioni di processo, quali pressione, flusso di gas e parametri del plasma, controllando in tempo reale attuatori, valvole e dispositivi di interblocco per garantire profili di incisione precisi.
Strumenti per la deposizione chimica da fase vapore (CVD)
Nei sistemi CVD, il modulo gestisce segnali digitali per la fornitura dei gas, il controllo della temperatura e la movimentazione del substrato. I suoi ingressi otticamente isolati proteggono il controller principale dal rumore elettrico, fornendo al contempo un monitoraggio affidabile dei parametri critici di processo. Le uscite digitali comandano riscaldatori, valvole per i gas e sistemi di pompaggio per mantenere una deposizione uniforme di film sottili sui wafer.
Sistemi per la deposizione fisica da fase vapore (PVD)
Per gli strumenti PVD, le coordinate 0100-11002 individuano le sorgenti di deposizione, le pompe da vuoto e i meccanismi di rotazione del substrato. Gli ingressi/uscite digitali ad alta velocità consentono la sincronizzazione di più camere, garantendo uno spessore uniforme e una distribuzione omogenea del film su wafer da 200 mm.
Integrazione di attrezzature per semiconduttori a più camere
L’architettura del modulo basata sui bus VME/VXI consente l’integrazione di più moduli 0100-11002 in un singolo chassis. Questa scalabilità permette il controllo di sistemi a più camere, fornendo un numero sufficiente di canali I/O per sensori e attuatori negli strumenti di processo per semiconduttori su larga scala.
