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- Beschreibung
- Hauptmerkmale
- Spezifikationen
- Anwendungen
- Empfohlene Produkte
Überblick
Herkunftsort: |
USA |
Markenname: |
AMAT |
Modellnummer: |
0100-11002 |
Verpackungsdetails: |
Original neu, fabrikversiegelt |
Lieferzeit: |
5-7 Tage |
Zahlungsbedingungen: |
T/T |
Lieferkapazität: |
Auf Lager |
Schnelle Details
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Bus-Architektur: |
VME-/VXI-Standard |
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Funktion: |
Übertragung und Verarbeitung von Maschinenlogiksteuersignalen |
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Eingangs Spannung: |
24 VDC |
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Digitale Eingänge: |
16–32 Kanäle (opto-isoliert) |
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Digitale Ausgänge: |
16–32 Kanäle (Relais- oder Transistorausgang) |
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E/A-Statusanzeigen: |
Onboard-LEDs für jeden Eingangs-/Ausgangskanal |
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Bauform: |
8 × 8,6 × 26,1 cm |
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Gewicht: |
0,5 kg |
Beschreibung
Die AMAT 0100-11002 ist ein digitales E/A-VME-Modul des Herstellers Applied Materials. Diese Platine ist eine zentrale Komponente in Halbleiterfertigungsanlagen und wird üblicherweise in den klassischen Precision-5000-(P5000-)Serie-Maschinen eingesetzt.
Hauptmerkmale
Funktion: Als DI/DO-Schnittstellenplatine (Digital Input/Digital Output) ist sie für die Übertragung und Verarbeitung der Maschinenlogiksteuersignale verantwortlich.
Busarchitektur: Folgt den VME/VXI-Modulstandards und ist in das Hauptgehäuse der Maschine integriert.
Elektrische Spezifikationen: Betriebsspannung typischerweise 24 VDC; Onboard-LED-Anzeigen überwachen den Eingangs-/Ausgangsstatus.
Spezifikationen
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Betriebstemperatur: |
0°C bis 70°C |
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Lagertemperatur: |
-20°C bis 85°C |
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Isolierung: |
Optische oder elektrische Trennung für Eingänge und Ausgänge |
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Montage: |
VME-6U- oder kompatibler Chassis-Slot |
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Konformität: |
VME64-/VXI-Standards |
Anwendungen
Weit verbreitet in den 200-mm-Wafer-Verarbeitungsanlagen von Applied Materials, darunter Ätz-, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) – Anlagen:
Steuerung von Ätzanlagen
Der Typ 0100-11002 wird zur Schnittstelle mit Sensoren, HF-Generatoren und Massendurchflussreglern in 200-mm-Wafer-Ätzsystemen eingesetzt. Er überwacht Prozessbedingungen wie Druck, Gasdurchfluss und Plasma-Parameter und steuert in Echtzeit Aktuatoren, Ventile und Sicherheitsverriegelungen, um präzise Ätzprofile sicherzustellen.
Anlagen für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
In CVD-Systemen steuert das Modul digitale Signale für die Gaszufuhr, Temperaturregelung und Substrathandhabung. Seine optisch isolierten Eingänge schützen die Hauptsteuerung vor elektrischem Rauschen und ermöglichen gleichzeitig eine zuverlässige Überwachung kritischer Prozessparameter. Digitale Ausgänge aktivieren Heizungen, Gasventile und Pumpsysteme, um eine gleichmäßige Abscheidung dünner Schichten auf den Wafern sicherzustellen.
Systeme für die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
Bei PVD-Werkzeugen koordiniert die 0100-11002 die Abscheidungsquellen, Vakuumpumpen und Substratrotationsmechanismen. Hochgeschwindigkeits-Digital-Ein-/Ausgänge ermöglichen die Synchronisation mehrerer Prozesskammern und gewährleisten eine konsistente Schichtdicke sowie Gleichmäßigkeit über 200-mm-Wafer.
Integration von Mehrkammer-Halbleiteranlagen
Die VME/VXI-Bus-Architektur des Moduls ermöglicht die Integration mehrerer 0100-11002-Module in einem einzigen Chassis. Diese Skalierbarkeit erlaubt die Steuerung von Mehrkammer-Systemen und stellt ausreichend Ein-/Ausgangskanäle für Sensoren und Aktuatoren in großtechnischen Halbleiterverarbeitungsanlagen bereit.
